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CBATCH 300s 批次熱ALD

韞茂科技產品概況

多片批次式ALD,能夠實現(xiàn)全自動、多片、連續(xù)化生產,有效提高產能,降低COO;能夠實現(xiàn)原子級別的精確控制,ALD沉積薄膜無針孔,質量高,可作為高K值介質層,金屬層,封裝層,電鍍種子層及其他功能層應用,廣泛應用于Mini/Micro LED, 第三代半導體,以及集成電路制造等領域。

韞茂科技技術參數(shù)

3D鍍膜實現(xiàn)原子級別精確控制

高度精度、高重復性全自動上下料傳輸

全自動、多片、連續(xù)化生產,有效提高產能,降低COO

實現(xiàn)超高深寬比(1000:1)結構的鍍膜,ALD沉積薄膜無針孔,質量高

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應用領域

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Mini/Micro LED

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VCSEL

FAQ

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CBATCH的主要有哪些領域的工藝應用?

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mini LED背光鈍化、RGB紅黃提亮及鈍化、高功率GaN LED鈍化、Vcsel鈍化、Micro LED顯示側壁鈍化等

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PBATCH 批次等離子體ALD
CBATCH 100s 批次熱ALD
CBATCH 300s 批次熱ALD
MPCVD 金剛石CVD
SICE-Y8 碳化硅外延CVD系統(tǒng)
KG 工業(yè)級粉末ALD
SCA 工業(yè)級粉末CVD
QBT-A 雙腔室高真空等離子體ALD
MINI 科研型桌式ALD
PVD100 雙腔室高真空磁控濺射系統(tǒng)
QBT-P 雙腔室超高真空磁控濺射系統(tǒng)
QBT-P L3 三腔室超高真空磁控濺射系統(tǒng)
QBT-MPV 雙腔室多靶槍公轉超高真空磁控濺射系統(tǒng)
QBT-MPC 雙腔室多靶槍共聚焦超高真空磁控濺射系統(tǒng)
QBT-MP·L3 多腔室超高真空磁控濺射系統(tǒng)
QBT-J 四腔室雙傾角超高真空鍍膜系統(tǒng)
QBT-E 雙腔室超高真空電子束蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)
QBT-I 雙腔室高速鍍膜系統(tǒng)
GM 研發(fā)型粉末ALD
QBT-T 雙腔室等離子體硅片及粉末ALD
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